三维激光直写系统

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面议
所属行业:
* MEMS设备
关 键 词:
三维激光直写系统,产品,MEMS及纳米专区,MEMS制造,* MEMS设备
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最后更新:
2016-07-23 11:17
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产品详细说明

  • 品牌: NanoScribe
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  • 发货期限: 自买家付款之日起 天内发货
  • 所在地: 上海 上海
  • 有效期至: 长期有效
 
NanoScribe 的三维激光直写系统: 是设计来以一般各种商业可用的光刻胶,来实现真实三维立体微米/纳米结构
这个独特性能:是建构在多重光子吸收的原理。

超短的激光脉冲曝光,预先勾勒出三维立体微纳米结构的轮廓;再经过显影程序,最终获得可自行支撑的立体结构固着于衬底材料上。
     
 

以此工艺通常可达到线径尺寸小于 150 纳米 (依照所选用的光刻胶),搭配上特殊用途的显微镜的接物镜与扫描工件载台,
以此方式在 100 x 72 mm² 平面建构高度在 300 微米以上的结构,是几乎可理解的。

     
 

欲建构的结构可以一般的 CAD 软件来设计 (可输入文件格式: DXF 、STL),
亦或以 NanoScribe 专门通用的设计语言 (GWL)。
此软件特色为:简易的程序语言,提供所有系统须调整的工艺参数。

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