三维激光直写系统

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	NanoScribe 的三维激光直写系统：是设计来以一般各种商业可用的光刻胶，来实现真实三维立体微米/纳米结构。这个独特性能：是建构在多重光子吸收的原理。超短的激光脉冲曝光，预先勾勒出三维立体微纳米结构的轮廓；再经过显影程序，最终获得可自行支撑的立体结构固着于衬底材料上。

	以此工艺通常可达到线径尺寸小于 150 纳米 (依照所选用的光刻胶)，搭配上特殊用途的显微镜的接物镜与扫描工件载台，以此方式在 100 x 72 mm² 平面建构高度在 300 微米以上的结构，是几乎可理解的。

	欲建构的结构可以一般的 CAD 软件来设计 (可输入文件格式: DXF 、STL)，亦或以 NanoScribe 专门通用的设计语言 (GWL)。此软件特色为：简易的程序语言，提供所有系统须调整的工艺参数。